מכונת ציפוי מגנטרון בוואקום
video

מכונת ציפוי מגנטרון בוואקום

TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputtering coater מנצל את אפקט הקפיצה שנוצר מהפצצת חלקיקים של חומר המטרה בסביבת ואקום, מה שגורם לאטומים או למולקולות של חומר המטרה לירות החוצה מהמשטח המוצק, ותהליך יצירת סרט דק מופקד על המצע.
שלח החקירה
שוחח עכשיו
הצגת המוצר

 

מכונת ציפוי מגנטרון בוואקום

 

מִפרָט

TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputtering coater מנצל את אפקט הקפיצה שנוצר מהפצצת חלקיקים של חומר המטרה בסביבת ואקום, מה שגורם לאטומים או למולקולות של חומר המטרה לירות החוצה מהמשטח המוצק, ותהליך יצירת סרט דק מופקד על המצע. שייך להכנה פיזית באדים (PVD) של טכנולוגיית הסרט הדק. ניתן להשתמש בציפוי TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputter coater להכנת דגימות מיקרוסקופ אלקטרוני סורק במעבדה, והגודל הקומפקטי של הציוד חוסך מקום במעבדה; הפעולה פשוטה ומתאימה לשימוש מתחילים.

מאפיינים

  • הוא מצויד במד ואקום ובמד זרם מקרטעת, שיכול לנטר את מצב העבודה בזמן אמת.
  • על ידי התאמת בקר זרם הקפיצה ושסתום הגז המיקרו ואקום, הוא שולט בלחץ תא הוואקום, זרם היינון ובוחר את גז היינון הנדרש כדי להשיג את אפקט הציפוי הטוב ביותר.
  • טבעת האיטום הגומי בקצה בית הפעמון תוכננה במיוחד כדי להבטיח שבית פעמון הזכוכית לא יישבר בשימוש ארוך טווח.
  • אביזרי אלקטרודות במתח גבוה אטומים בקרמיקה עמידים יותר מאשר אטמי הגומי המשמשים בדרך כלל.
  • על פי מאפייני היינון של הגז בשדה החשמלי, נעשה שימוש בתא ואקום מקרטעת בעל קיבולת גדולה ושטח מקביל של מטרת הקפיצה כדי להפוך את השכבה המקרזה לאחידה וטהורה יותר.
  • ראש הקפיצה משתמש בטכנולוגיית קירור Peltier כדי להשיג ציפוי חלקיקים עדינים בביצועים גבוהים.
  • זמינים ראשי תרסיס מקוררים במים ושולחנות מנשא מקוררים במים.

שם מוצר

מכונת ציפוי מגנטרון בוואקום

דגם מוצר

TOB-1100X-SPC-16M

מצב התקנה

ציוד זה נדרש לשימוש בגובה של 1000 מ' או פחות, בטמפרטורה של 25 מעלות ±15 מעלות ולחות של 55%Rh±10%Rh.

1. מים: הציוד צריך להיות מצויד במכונת מי קירור במחזור עצמי אופציונלי (מילוי מים טהורים או מים מופחתים)

2. חשמל: AC220V 50Hz, חייב להיות הארקה טובה

3. גז: תא ציוד למילוי בארגון (טוהר 99.99% או יותר), צריך לספק בלון גז ארגון משלהם (עם שסתום הפחתת לחץ)

4. שולחן עבודה: גודל 600 מ"מ×600 מ"מ×700 מ"מ, נושא עומס 50 ק"ג ומעלה.

5. מכשיר אוורור: לא חובה

פרמטר עיקרי

1. יעד: Ø50 מ"מ

2. תא ואקום: Ø160 מ"מ × 120 מ"מ

3. דרגת ואקום: פחות או שווה ל-4×10-2mbar

4, זרם מרבי: 50mA (אופציונלי 100mA)

5. ניתן להגדיר זמן הגבלה: 9999 שניות

6. שסתום מיקרו ואקום: חבר צינור Ø3mm

7. מתח גבול: 1600V DC

8. משאבה מכנית: 2L/s

9. חומר יעד:

דרישת גודל:φ50mm×(0.1-0.5)mm(עובי)

מתאים לקפיצת מתכות Au, Ag, Cu ומתכות אחרות (זמין בחברתנו)

10. גודל: 360 מ"מ × 300 מ"מ × 380 מ"מ

משקל כולל: 50 ק"ג, משקל נקי: 15 ק"ג

 

הצגת מוצר

 

Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine

 

התעודה שלנו
עוד תעודות

תעודת פטנט

patent certificate

ISO 9001

ISO 9001

תעודת CE

ce certificate

 

צור קשר

 

Email

אימייל:tob.amy@tobmachine.com

phone.png

טלפון:+86-18120715609

 

 

上方是模板内容,下方是编辑器原内容,编辑好请删除原内容.

 

תגיות פופולריות: מכונת ציפוי מקרטעת מגנטרון ואקום, ספקים, יצרנים, מפעל, מחיר

שלח החקירה

whatsapp

טלפון

דוא

חקירה